槽式RCA清洗設備

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槽式RCA清洗設備

設備名稱 Equipment Name

槽式RCA清洗設備 Batch-type RCA Cleaning Equipment

設備型號 Equipment Model

SC-CSZJ9600E-20F

設備用途 Equipment Application

用于擴散后的硅片去繞鍍、清洗處理。
Used for wrap around removal & cleaning of the diffused silicon wafers.

工藝流程 Process Flow

去繞鍍→后清洗→酸洗→后清洗→酸洗→預脫水→烘干 (供參考)  
Wrap Around Removal → Post-clean→ Acid Clean → Post-clean→Acid Clean→ Hot Water Drying → Drying (for reference)


技術特點  Features

1、產能:400片/批,9600片/小時(210硅片),480片/批,12000片/小時(182硅片)。
Throughput: 400pcs/batch, 9600pcs/h(210mm wafer),480pcs/batch, 12000pcs/h (182mm wafer).

2、支持多種添加劑技術。
Various additive technologies available.

3、支持最薄120μm硅片。
Wafer thickness down to 120μm.

4、潔凈區域干燥,自潔凈系統。
With dry clean area and self-cleaning system.

5、快速換液,在線換液。
Quick inline bath change.

6、支持MES、RFID及選配在線稱重功能。
Available with MES, RFID system, inline weight testing optional.


設備參數 Parameters

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